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一种滤波电容器高方阻金属化薄膜用基膜及其制备方法

时间:2017-05-12 09:10:53  来源:  作者:

专利申请号:CN2016109450313

公开号:CN106519470A
申请日:2016.10.26 公开日:2017.03.22
申请人:安徽飞达电气科技有限公司
本发明属于薄膜电容器技术领域,具体涉及一种滤波电容器高方阻金属化薄膜用基膜及其制备方法,由以下重量份的原料制成:改性聚丙烯、等规聚苯乙烯、羟基羧基混合型聚酯、异辛基三乙氧基硅烷、碳酸锶、羧甲基强乙基纤维素、聚二甲基硅烷、硬脂酸锌、对苯二甲酰氯、中链甘油三酸酯、尼泊金乙酯、硅油、树木灰、偏苯三甲酸。本发明相比现有技术具有以下优点:本发明中制备方法简单,无毒、无腐蚀,所得基膜耐冲击、抗撕裂,按蒸镀金属镀层后,具有自愈性好、性能稳定好、抗电强度高、不易击穿、生产成本低等优点,同时提高了金属化薄膜电容器的使用寿命,适于大范围推广。
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